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第338章 后续计划 震惊（第3页）

电梯门缓缓打开，二楼走廊尽头的玻璃门后，隐约能看到身穿洁净服的工程师匆匆走过。

王世杰推开玻璃门，一股带着淡淡消毒水味的空气扑面而来：“沈院士，这边请，65纳米光刻机就在二号车间。”

穿过风淋室，沈院士跟着王世杰走进二号车间。昏暗的环境中，几盏应急灯勾勒出设备的轮廓，65纳米光刻机静静矗立在车间中央，管线排布整齐，与他想象中“安装调试”的杂乱景象截然不同。

“这是……”沈院士脚步猛地顿住，目光死死盯着设备操作屏。

屏幕上并未显示“用户登录”、“系统锁定”的提示，反而跳动着一行行数据代码，旁边的监控屏上，正实时显示着硅晶圆的光刻进度。

王世杰笑着解释：“托您的福，年前我们就破解了系统锁定，现在设备已经完成调试，正在尝试生产45纳米芯片。”

“45纳米！”沈院士的声音陡然拔高，快步走到观察窗前，手指紧紧贴在玻璃上。

屏幕上，经过多重曝光的电路图案清晰锐利，线宽误差稳定在±0.004微米以内，这精度远超他的预期。

他转头看向王世杰，语气带着难以置信的激动：“你们不仅解锁了系统，还掌握了多重曝光技术？这怎么可能！国际上能做到用65纳米设备生产45纳米芯片的厂商，一共也没有几家！”

王世杰轻笑一声，“能做到的厂家不多，那是人家本身就拥有45纳米光刻机，不需要利用多重曝光技术！”

沈院士怔在原地，目光反复扫过屏幕上的光刻数据与设备运转状态，指尖因激动而微微颤抖。

他深耕微电子领域数十年，太清楚“用65纳米设备生产45纳米芯片”意味着什么。

这不仅是技术突破，更是打破国外设备垄断的关键一步。

“多重曝光的套刻精度、光刻胶兼容性、良率控制……这些难题你们都解决了？”沈院士快步走到设备旁，目光落在晶圆传送臂上，声音里满是急切。

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