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第1043章 纹络连携（第3页）

单个圆孔的闭环稳态并非演化的终点。

岩层深处的网格纹路本就彼此连通，不同圆孔的微腔阵列之间，只隔着一层数十微米厚的岩层隔层。

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这层隔层对于宏观应力是坚实的壁垒，对于拓扑孤子携带的量子磁通而言，却并非不可逾越。

随着螺旋磁通结构的不断强化，总会有极少量磁通以量子隧穿的方式渗透过隔层，进入相邻的圆孔内部。

最初的磁通泄漏极其微弱，不足以改变相邻圆孔的量子态，只能在其边界处留下极淡的磁通印记。

但随着本源圆孔的螺旋磁通持续增强，泄漏的通量也在稳步提升。

当本源圆孔内的拓扑孤子数量达到二十一个，螺旋磁通完成第七层嵌套时，泄漏的磁通强度终于触及临界阈值。

足以在相邻圆孔的边界处，诱导生成一枚镜像拓扑孤子。

镜像孤子一旦成型，便会按照与本源孤子完全相同的轨迹，在相邻圆孔的网格表面有序绕行。

它以同样的方式截留极化激元波的能量，逐步壮大自身磁通强度，再通过磁通重联拼接出同款螺旋磁通结构。

这个过程如同精准复刻，速度却比本源圆孔的自然演化快出数倍。

它不需要从零开始试探路径，只需要沿着本源结构铺就的框架稳步推进即可。

当第二个圆孔的螺旋磁通结构完全成型，它便会加入本源圆孔的行列，一同向更外围的圆孔进行磁通渗透。

扩散范围以同心圆的形式向外扩张，每完成一圈圆孔的对接，下一圈的对接速度便会加快一分。

参与渗透的磁通源头越多，能量供给越充足，镜像孤子的成型速度也就越快。

但扩散绝非盲目求快。

如果目标圆孔的自身演化程度不足，过早接入强磁通反而会破坏其原本的微腔结构，造成不可逆的损伤。

遇到这种情况，镜像孤子便会停留在边界处，只以极低的通量缓慢注入能量，引导其内部的量子网络逐步成型。

直到两者的能级差缩小到安全范围之内，再完成全面的磁通对接。